アルカリ水溶液中のSi(100)表面上へのNiの析出機構

NIWA D; HOMMA T; OSAKA T

文献

J-GLOBAL ID：200902256447396846 整理番号：04A0563959

アルカリ水溶液中のSi(100)表面上へのNiの析出機構

Deposition Mechanism of Ni on Si(100) Surfaces in Aqueous Alkaline Solution

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巻： 108 号： 28 ページ： 9900-9904 発行年： 2004年07月15日
JST資料番号： W0921A ISSN： 1520-6106 CODEN： JPCBFK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

アルカリ水溶液中のSi(100)表面上へのNiの自動析出過程...

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固-液界面 , 無機化合物一般及び元素 , その他の無触媒反応 , 固体デバイス製造技術一般 , 無電解めっき

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