プラズマエッチングでの微視的均一性

GOTTSCHO R A; JURGENSEN C W; VITKAVAGE D J

文献

J-GLOBAL ID：200902068277209069 整理番号：93A0058837

プラズマエッチングでの微視的均一性

Microscopic uniformity in plasma etching.

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巻： 10 号： 5 ページ： 2133-2147 発行年： 1992年09月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標記の問題についての最近の研究を概説し,アスペクト依存エッチ...

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プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

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