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J-GLOBAL ID：200902071214146300   整理番号：83A0358247

パルスめっき

著者 (2件)： 細川邦典 (九州工大) ,  松永守央 (九州工大)
資料名： 金属表面技術  (Journal of the Metal Finishing Society of Japan)
巻： 34  号： 3  ページ： 98-105  発行年： 1983年03月 
JST資料番号： G0441A  ISSN： 0026-0614  CODEN： KZHGAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 定電流パルスめっきを中心にパルスめっきの特性,パルスパラメー...

シソーラス用語： パルス波 ,...
準シソーラス用語： 周期的逆電流めっき ,...

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分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (84件)：

• 1) H. Y. Cheh; Electrodeposition of Gold by Pulsed Current, J. Electrochem. Soc., 118, 551 (1971)
• 2) H. Y. Cheh; The Limiting Rate of Deposition by P-R Plating, J. Electrochem. Soc., 118, 1132 (1971)
• 3) N. Ibl; Zur Kentmis der Metallabscheidung mittels Pulselektrolyse, Metalloberfläche, 33, [2], 51 (1979)
• 4) A. Hickling, H. P. Rothbaum; Cyclic Electrolysis, Part I. The Influence of Periodic Reversal of Current upon Concentration Polarization during Metal Deposition, Trans. Inst. Metal Finish., 34, 53 (1971)
• 5) C. C. Wan, H. Y. Cheh, H. B. Linford; The Application of Pulsed Plating Techniques to Metal Deposition I. A Critical Review of the Literature, Plating, 61, [6], 559 (1974)

タイトルに関連する用語 (1件)： パルスめっき