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J-GLOBAL ID：200902082909203641   整理番号：90A0165124

ダイヤモンド高速合成用アーク放電プラズマ装置の試作

Development of arc discharge plasma apparatus for high rate synthesis of diamond.

著者 (6件)： 大竹尚登 (東京工大 工) ,  栗山康彦 (東京工大 工) ,  吉川昌範 (東京工大 工) ,  尾花博 (小野田セメント) ,  鬼頭昌之 (小野田セメント) ,  斉藤弘 (小野田セメント)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 55  号： 12  ページ： 2163-2168  発行年： 1989年12月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標記装置の性能および合成したダイヤモンド膜の性質等について報...

シソーラス用語： Ramanスペクトル ,...
準シソーラス用語： ダイヤモンド薄膜

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (9件)：

• 1) B. V. Spityn and B. V. Derjaguin : USSR Inv. Certif., No.339134 (1956). From B. V. Spitsyn, L. L. Bouilov and B. V. Derjaguin : Vapor Growth of Diamond on Diamond and Other Surfaces, J. Crystal Growth, 52, (1981) 219.
• 2) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Kamo and N. Setaka : Vapor Deposition of Diamond Particles from Methane, Jpn. J. Appl. Phys., 17, (1982) L183.
• 3) M. Kamo, Y. Sato, S. Matsumoto and N. Setaka : Diamond Synthesis from Gas Phase in Microwave Plasma, J. Cryst. Growth, 62, (1983) 642.
• 4) A. Sawabe and T. Inuzuka : Growth of Diamond Thin Films by Electron Assisted Chemical Vapor Deposition, J. Appl. Phys., 46, (1985) 146.
• 5) K. Suzuki, A. Sawabe, H. Yasuda and T. Inuzuka : Growth of Diamond Thin Films by dc Plasma Chemical Vapor Deposition, Appl. Phys. Lett., 50, (1987) 728.

タイトルに関連する用語 (4件)： ダイヤモンド ,  アーク放電 ,  プラズマ装置 ,  試作