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J-GLOBAL ID：200902105790652248   整理番号：02A0191178

SrOバッファ層を使ってSi(001)上に二段階で成長させたBi₂Sr₂CuO_x膜の安定性

Stability of Two-Step-Growth Bi₂Sr₂CuO_x Films on Si(001) using SrO Buffer Layer.

著者 (4件)： TAMBO T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  SHIMIZU A (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  MATSUDA A (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  TATSUYAMA C (Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 1  ページ： 83-85  発行年： 2002年01月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SrOバッファ層を使ってBi₂Sr<s...

シソーラス用語： バッファ層 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

引用文献 (23件)：

• 1) E. W. Seibt and A. Zalar: Vacuum 46 (1995) 1043.
• 2) R. M. Silver, A. B. Berezin, M. Wendman and A. L. de Lozanne: Appl. Phys. Lett. 52 (1988) 2174.
• 3) A. Tsukamoto, K. Imagawa, M. Hiratani and T. Aida: J. Appl. Phys. 68 (1990) 5278.
• 4) L. S. Hung, J. A. Agostinelli, G. R. Paz-Pujalt and J. M. Mir: Appl. Phys. Lett. 53 (1988) 2450.
• 5) H. Nasu, H. Myorin, Y. Ibara, S. Makida, Y. Nishiyama, T. Kato, T. Imura and Y. Osaka; Jpn. J. Appl. Phys. 27 (1988) L634.

タイトルに関連する用語 (6件)： SrO ,  バッファ層 ,  Si ,  段階 ,  成長 ,  安定性