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J-GLOBAL ID：200902106881201598   整理番号：97A0632263

193nmレジスト用脂環式メタクリレート重合体中の新しい保護基

New Protective Groups in Alicyclic Methacrylate Polymers for 193-nm Resists.

著者 (2件)： NOZAKI K (Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  YANO E (Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 10  号： 4  ページ： 545-550  発行年： 1997年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極性保護基(5種)で保護したメタクリレートと2-メチル-2-...

シソーラス用語： *フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： 橋架け化合物 ,...

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分類 (2件)： 単独重合  (CG04020S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (6件)： メタクリル酸2-メチル-2-アダマンチル ,  メタクリル酸(2-オキソテトラヒドロフラン)-3-イル ,  メタクリル酸2-オキソ-1,3-ジオキソラン-4-イルメチル ,  メタクリル酸(4-メチル-2-オキソテトラヒドロフラン)-4-イル ,  メタクリル酸(テトラヒドロフラン)-3-イル ,  メタクリル酸(2-オキソテトラヒドロフラン)-4-イル

引用文献 (15件)：

• 1). K. Nozaki, K. Watanabe, T. Namiki, M. Igarashi, Y. Kuramitsu, and E. Yano, Symposium on Polymers for Microelectronics and Photonics at Pacifichem'95 (1995) No.321.
• 2). K. Nozaki, K. Watanabe, and E. Yano, Jpn. J. Appl. Phys., 35, Pt. 2, L 528-530 (1996).
• 3). K. Nozaki, K. Watanabe, E. Yano, A. Kotachi, S. Takechi, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol., 9 (3), 509 (1996).
• 4). S. Takechi, M. Takahashi, A. Kotachi, K. Nozaki, E. Yano, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol., 9 (3), 475 (1996).
• 5). S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki, and N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 5 (3), 439 (1992).

タイトルに関連する用語 (5件)： レジスト ,  脂環 ,  メタクリレート ,  重合体 ,  保護基