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J-GLOBAL ID：200902110670860711   整理番号：99A0772521

電子サイクロトロン共鳴プラズマ流中の基板の前面でHe準安定原子密度分布のレーザ誘起蛍光分光法による二次元測定

Two-Dimensional Measurement of He Metastable Atom Density Profile in Front of Substrate in Electron Cyclotron Resonance Plasma Flow by Laser-Induced Fluorescence Spectroscopy.

著者 (4件)： WATANABE M (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  TAKIYAMA K (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  TOYOTA H (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  ODA T (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 7B  ページ： 4380-4382  発行年： 1999年07月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマプロセシングでバッファガスとして希ガスをしばしば用い...

シソーラス用語： *ECRプラズマ ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング

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分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (9件)：

• (1) M. Yuasa, H. Kawarada, J. Wei, J. S. Ma, J. Suzuki, S. Okada and A. Hiraki: Surf. Coat. Technol. 49 (1991) 374.
• (2) T. Ono, N. Itabashi, I. Ochiai, S. Yamamoto and K. Mochiji: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 6718.
• (3) H. Yoshida, M. Ukai, H. Kawamura, N. Kouchi and Y. Hatano: J. Chem. Phys. 97 (1992) 3289.
• (4) E. A. Den Hartog, D. A. Doughty and J. E. Lawler: Phys. Rev. A 38 (1988) 2471.
• (5) H. Toyota, M. Watanabe, K. Takiyama and T. Oda: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 4670.

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子サイクロトロン共鳴プラズマ ,  前面 ,  He ,  密度分布 ,  レーザ誘起蛍光 ,  分光法