文献

J-GLOBAL ID：200902114957557470   整理番号：99A0886740

「空気感染」に導く,感光性高分子膜中におけるスルホン酸3-フェニル-3,3-エチレンジオキシ-1-プロピルの酸増殖過程

Acid Proliferation Processes of 3-Phenyl-3,3-ethylenedioxypropyl Sulfonates in Photosensitive Polymer Films Leading to “Air Infection”.

著者 (5件)： KUDO K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ARIMITSU K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  OHMORI H (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ITO H (Toppan Co. Ltd., Saitama, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 11  号： 8  ページ： 2126-2131  発行年： 1999年08月 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光酸発生剤を含むポリ[p-(tert-ブトキシカルボニルオキ...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： ギャップ

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0886740&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=T0893A") }}

分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： 2-フェニル-2-[2-(4-メチルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(2,4,6-トリメチルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(2,4,6-トリイソプロピルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン

タイトルに関連する用語 (9件)： 空気感染 ,  感光性 ,  高分子膜 ,  スルホン酸 ,  フェニル ,  ピル ,  酸 ,  増殖 ,  過程