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J-GLOBAL ID：200902118401688156   整理番号：02A0391920

層状オキシ硫化物LnCuOS(Ln=La~Nd)の合成と物性評価

著者 (5件)： 高藤晃平 (東京工大) ,  植田和茂 (東京工大) ,  平松秀典 (科学技術振興事業団) ,  平野正浩 (科学技術振興事業団) ,  細野秀雄 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集
巻： 2002  ページ： 150  発行年： 2002年03月24日 
JST資料番号： X0505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ランタン ,...

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分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 層状 ,  硫化物 ,  物性評価