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J-GLOBAL ID:200902119351959559   整理番号:99A0245635

フラーレン混入の二重層レジスト系を用いたリフトオフ法によるナノメータ・ドットパターンの作製

Fabrication of Nanometer-Order Dot Patterns by Lift-off Using a Fullerene-Incorporated Bilayer Resist System.
著者 (4件):
資料名:
巻: 37  号: 12B  ページ: 7202-7204  発行年: 1998年12月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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標記の二次元ナノオーダ・ドットパターンの新しい作製法を提案し...
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (8件):
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