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J-GLOBAL ID：200902121091097820   整理番号：99A0999510

プラズマ支援スパッタリングによるPb(Zr,Ti)O₃薄膜の作製

Preparation of Pb(Zr, Ti)O₃ Thin Films by Plasma-Assisted Sputtering.

著者 (5件)： HIOKI T (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  AKIYAMA M (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  UEDA T (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  ONOZUKA Y (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  SUZUKI K (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 9B  ページ： 5375-5377  発行年： 1999年09月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ターゲットと基板間にコイルアンテナを挿入した新規プラズマ支援...

シソーラス用語： *強誘電体 ,...
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】

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分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (18件)：

• 1) K. Suzuki, M. Akiyama and Y. Onozuka: Proc. Asia Display 98 (1998) p. 879.
• 2) M. Akiyama, Y. Onozuka, T. Hioki, T. Ueda and K. Suzuki: Proc. IDW'98 (1998) p. 847.
• 3) S. M. Rossnagagel: J. Vac. Sci. & Technol. A 7 (1989) 1025.
• 4) J. Musil, S. Kadlic and W.-D. Munz: J. Vac. Sci. & Technol. A 9 (1991) 1171.
• 5) M. Matsuoka, Y. Hoshi and M. Naoe: J. Appl. Phys. 63 (1988) 2098.

タイトルに関連する用語 (9件)： プラズマ ,  支援 ,  スパッタリング ,  Pb ,  Zr ,  Ti ,  O3 ,  薄膜 ,  作製