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J-GLOBAL ID：200902123207709707   整理番号：02A0848550

SBTとPZT膜を用いたMFIS構造におけるSiO₂/Si界面の光学的評価

著者 (7件)： 神田浩文 (大阪大 大学院) ,  寒川雅之 (大阪大 大学院) ,  豊嶋吉英 (大阪大 大学院) ,  金島岳 (大阪大 大学院) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  江利口浩二 (松下電器産業)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 2  ページ： 447  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ストロンチウム化合物 ,...
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】 ,...

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分類 (1件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

タイトルに関連する用語 (7件)： SBT ,  PZT ,  MFIS構造 ,  SiO2 ,  Si ,  界面 ,  光学的評価