文献

J-GLOBAL ID：200902124258695030   整理番号：97A0043524

Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究 (第1報) ポリシング加工用高速回転型電極の試作とその加工特性

Research on polishing processing at Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining). (First report). Trial manufacture of a high-speed rotation type electrode for polishing processing and its processing characteristics.

著者 (4件)： 森勇蔵 (大阪大 大学院) ,  山内和人 (大阪大 大学院) ,  山村和也 (大阪大 大学院) ,  佐野泰久 (大阪大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 1996  号： Spring 3  ページ： 1145-1146  発行年： 1996年03月 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

引用文献 (2件)：

• 森勇藏. 極限精密加工技術. 精密工学会誌. 1991, 57, 1, 36
• MORI, Y. Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining) -an ultra precision machining technique using highpressure reactive plasma-. Nanotechnology. 1993, 4, 225

タイトルに関連する用語 (6件)： CVM ,  ポリシング加工 ,  研究 ,  高速回転 ,  試作 ,  加工特性