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J-GLOBAL ID：200902125958904060   整理番号：98A0757903

Al₃Hf金属間化合物の陽極酸化膜による高耐熱,高信頼性薄膜キャパシタの検討

A Study on the Thin Film Capacitor with High Heat-Proof Property and High Reliability by Using Anodized Film of Al₃Hf Intermetallic Compound.

著者 (6件)： 尾関雅彦 (北見工大 工) ,  山根美佐雄 (北見工大 工) ,  佐々木克孝 (北見工大 工) ,  阿部良夫 (北見工大 工) ,  柳沢英人 (北見工大 工) ,  川村みどり (北見工大 工)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C-2  (Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： J81-C-2  号： 7  ページ： 619-627  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： L0196A  ISSN： 0915-1907  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高耐熱で高信頼性の薄膜キャパシタを実現するため,熱的に高安定...

シソーラス用語： *薄膜コンデンサ ,...

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分類 (2件)： LCR部品  (NA05030D) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (8件)：

• SCHOEN, J. M. The correlation between temperature coefficient of capacitance and dielectric loss in Tantalum and Tantalum-Aluminum anodic oxides. J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 9, 1215-1217
• ROTTERSMAN, M. H. Tantalum film capacitors with improved ac properties. IEEE Trans. Components. Hybrids and Manuf. Technol. 1978, CHMT-1, 2, 137-142
• 佐々木克孝. 窒素添加したTaの陽極酸化膜キャパシタの熱安定性. 信学論(C-II). 1990, J37-C-II, 10, 643-645
• 佐々木克孝. 低化成電圧で作製したTa_2N陽極酸化膜キャパシタの耐熱特性. 信学論(C-II). 1995, J78-C-II, 3, 113-118
• 土橋 剛. 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性. 信学論(C-II). 1996, J79, 5, 197-199

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属間化合物 ,  陽極酸化膜 ,  高耐熱 ,  高信頼性 ,  薄膜キャパシタ