文献

J-GLOBAL ID：200902127272909085   整理番号：99A0396261

高周波プラズマ補助マグネトロンスパッタリングによって作製したTi-Al-N薄膜の相転移と相特性

Phase transition and properties of Ti-Al-N thin films prepared by r.f.-plasma assisted magnetron sputtering.

著者 (4件)： ZHOU M (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MAKINO Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Toyama, JPN) ,  NOGI K (Takaoka National Coll., Toyama, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 339  号： 1/2  ページ： 203-208  発行年： 1999年02月08日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘導結合高周波プラズマ補助の平面マグネトロンスパッタリング法...

シソーラス用語： *薄膜成長 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0396261&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (8件)： 高周波プラズマ ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  Ti ,  Al ,  薄膜 ,  相転移 ,  相特性