文献

J-GLOBAL ID：200902127903038910   整理番号：02A0406183

ガラス基板上への無電解NiPめっきの初期析出挙動

Initial Deposition Behavior of Electroless Nickel on Glass Substrate.

著者 (3件)： 山本誠二 (関東学院大 大学院工学研究科) ,  田代雄彦 (関東学院大 大学院工学研究科) ,  本間英夫 (関東学院大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 53  号： 4  ページ： 256-261  発行年： 2002年04月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナトリウムガラス基板上へ,めっき条件とめっき浴組成を種々変化...

シソーラス用語： *無電解めっき ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0406183&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  無電解めっき  (WC08024S)

物質索引 (9件)： 酢酸 ,  プロピオン酸 ,  こはく酸 ,  乳酸 ,  グリコール酸 ,  りんご酸 ,  くえん酸 ,  グリシン ,  アスパラギン酸

引用文献 (17件)：

• 田代雄彦. 表面技術. 1996, 47, 349
• 田代雄彦. 表面技術. 1999, 50, 140
• 初川拓朗. 表面技術. 1994, 45, 543
• 田代雄彦. 表面技術. 2001, 52, 289
• 高田祐一. 表面技術協会第103回講演大会講演要旨集. 2001, 31

タイトルに関連する用語 (7件)： ガラス基板 ,  電解 ,  NIP ,  めっき ,  初期 ,  析出 ,  挙動