エッチング媒質として水蒸気を用いたレジストの電子ビーム誘起エッチング

KOHLMANN-VON PLATEN K T; BRUENGER W H

文献

J-GLOBAL ID：200902131226162843 整理番号：97A0194392

エッチング媒質として水蒸気を用いたレジストの電子ビーム誘起エッチング

Electron-beam induced etching of resist with water vapor as the etching medium.

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巻： 14 号： 6 ページ： 4262-4266 発行年： 1996年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

H₂O蒸気の存在下での有機レジストの標...

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固体デバイス製造技術一般

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