文献

J-GLOBAL ID：200902132918075980   整理番号：00A0935143

回折光学素子作製のための電子ビーム近接効果補正法の有効性と限界

Validity and Limitation of a Proximity-Compensation Method for Febricating Diffractive Optical Elements Using the Direct-Writing Electron-Beam Lithography.

著者 (5件)： 岡野正登 (大阪科学技術セ) ,  山本和也 (ナルックス) ,  四谷任 (大阪科学技術セ) ,  平井義彦 (大阪府大 工) ,  菊田久雄 (大阪府大 工)
資料名： 光学  (Japanese Journal of Optics)
巻： 29  号： 9  ページ： 566-572  発行年： 2000年09月10日 
JST資料番号： G0125B  ISSN： 0389-6625  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子ビームの直接描画法によって回折光学素子を作製する場合,電...

シソーラス用語： *回折格子 ,...
準シソーラス用語： ブレーズド格子

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分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (15件)：

• FUJITA, T. Fabrication of microlenses using electron-beam lithography. Opt. Lett. 1981, 6, 613-615
• SHIONO, T. Diffraction-limited blazed reflection diffractive microlenses for oblique incidence fabricated by electron-beam lithography. Appl. Opt. 1991, 30, 3643-3649
• DI FABRIZIO, E. One step electron-beam lithography for multipurpose diffractive optical elements with 200 nm resolution. J. Vac. Sci. Technol. B. 1996, 14, 3855-3859
• KLEY, E.-B. Continuous profile writing by electron and optical lithography. Microelectron. Eng. 1997, 34, 261-298
• DASCHNER, W. Fabrication of monolithic diffractive optical elements by the use of e-beam direct write on an analog resist and a single chemically assisted ion-beam-etching step. Appl. Opt. 1995, 34, 2534-2539

タイトルに関連する用語 (6件)： 回折光学素子 ,  作製 ,  電子ビーム ,  近接効果補正 ,  有効性 ,  限界