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J-GLOBAL ID：200902171267305170   整理番号：97A0194305

200nm分解能を持つ多目的の回折光学素子のためのワンステップ電子ビームリソグラフィー

One step electron-beam lithography for multipurpose diffractive optical elements with 200nm resolution.

著者 (7件)： DI FABRIZIO E (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  GRELLA L (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  BACIOCCHI M (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  GENTILI M (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  PESCHIAROLI D (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  MASTROGIACOMO L (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  MAGGIORA R (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 14  号： 6  ページ： 3855-3859  発行年： 1996年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム直接リソグラフィーによって広い波長範囲の回折光学素...

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 分解能 ,  多目的 ,  回折光学素子 ,  電子ビームリソグラフィー