文献

J-GLOBAL ID：200902134075726056   整理番号：96A0161828

Al(001)/YSi_2-x/Si(001)系における連続エピタキシャル成長

Heteroepitaxial contact system of Al(001)/YSi_2-x/Si(001).

著者 (6件)： 武山真弓 (北見工大 工) ,  野矢厚 (北見工大 工) ,  福田朝之 (北見工大 工) ,  佐々木克孝 (北見工大 工) ,  青柳英二 (東北大 金材研) ,  平賀賢二 (東北大 金材研)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 95  号： 400(SDM95 184-200)  ページ： 39-44  発行年： 1995年12月08日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Si(001)基板上に330°Cで堆積したY(50Å)を500...

シソーラス用語： アルミニウム ,...
準シソーラス用語： シリサイド

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (11件)：

• KAATZ, F. H. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 1748
• CHANG, Y. S. J. Appl. Phys. 1990, 68, 2411
• KNAPP, J. A. Appl. Phys. Lett. 1986, 48, 466
• LEE, Y. K. J. Alloys and Compounds. 1993, 193, 289
• LEE, T. L. J. Appl. Phys. 1993, 73, 8258

タイトルに関連する用語 (4件)： Al ,  Si ,  系 ,  エピタキシャル成長