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J-GLOBAL ID：200902135891294330   整理番号：94A0598396

脂環式重合体系ArF単層レジストのリソグラフィー特性

Lithographic characteristics of alicyclic polymer based ArF single layer resists.

著者 (5件)： TAKAHASHI M (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  TAKECHI S (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  NOZAKI K (Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  KAIMOTO Y (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  ABE N (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7  号： 1  ページ： 31-39  発行年： 1994年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学増幅ベースの新規ポジ型ArF単層レジストについて述べた。...

シソーラス用語： フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： 橋架け化合物

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分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• 1). M. A. Hartney, R. R. Kunz, D. J. Ehrlich, and D. C. Shaver, Proc. SPIE, 1262 (1990)119.
• 2). R. R. Kunz, M. W. Horn, R. B. Goodman, P. A. Bianconi, D. A. Smith, J. R. Eshelman, G. M. Wallraff, R. D. Miller, and E. J. Ginsburg, Proc. SPIE, 1672 (1992) 385.
• 3). G. M. Wallraff, R. D. Miller, M. Baier, E. J. Ginsburg, and R. R. Kunz, J. Photopolym. Sci. Technol., 5 (1992)111.
• 4).M. Sasago, Y. Tani, M. Endo, and N. Nomura, Proc. SPIE, 1264 (1990) 466.
• 5). M. Endo, K. Hashimoto, K. Yamashita, A. Katsuyama, T. Matsuo, Y. Tani, M. Sasago, and N. Nomura, IEDMDigest, (1992) 45.

タイトルに関連する用語 (6件)： 脂環 ,  重合体 ,  ARF ,  単層 ,  レジスト ,  リソグラフィー