文献

J-GLOBAL ID：200902136768803839   整理番号：98A0247972

接触及び非接触マスクを用いたガラス材料の高速原子ビームエッチング

Fast Atom Beam Etching of Glass Materials with Contact and Non-Contact Masks.

著者 (7件)： TOMA Y (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  HATAKEYAMA M (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  ICHIKI K (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  HUANG H (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  YAMAUCHI K (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  WATANABE K (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  KATO T (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36  号： 12B  ページ： 7655-7659  発行年： 1997年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 接触マスク(電子線レジスト)と二つの非接触マスク(5μm直径...

シソーラス用語： *原子ビーム ,...
準シソーラス用語： FABエッチング ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0247972&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (4件)：

• 1) M. Hatakeyama, K. Ichiki, T. Kobata, M. Nakao and Y. Hatamura: IEICE Trans. Electron. E78-C(2) (1995) 174.
• 2) M. Hatakeyama, S. Tanaka, K. Ichiki, Y. Toma, M. Nakao and Y. Hatamura: Microsys. Technol. 3 (1997) 112.
• 3) S. Ronggui and G. C. Righini: J. Vac. Sci. Technol. A 9 (1991) 2709
• 4) Stainbruchel, H. W. Lehmann and K. Frick: J. Electrochem. Soc.: Solid-State Sci. Technol. (1985) 180.

タイトルに関連する用語 (5件)： 非接触 ,  マスク ,  ガラス材料 ,  原子ビーム ,  エッチング