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J-GLOBAL ID:200902138433510430   整理番号:93A0638940

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第3報) 標準微粒子による粒径測定法の評価

Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizes of Nanometer Order by Light-scattering. (3rd Report). Evaluation of Measuring System by using Standard Particles.
著者 (8件):
資料名:
巻: 59  号:ページ: 1121-1126  発行年: 1993年07月 
JST資料番号: F0268A  ISSN: 0912-0289  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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シリコンウエハ上の異物を検出する光散乱法は種々開発されている...
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
引用文献 (5件):
  • 1) 秋山伸幸 : 半導体用異物検査技術, 精密工学会誌, 55, 2(1989)294.
  • 2) 小泉光義, 秋山伸幸 : LSIウエハパターンからの反射光の偏光特性を利用した異物検出法の開発, 計測自動制御学会論文集, 25, 9(1989)954.
  • 3) 秋山伸幸, 中田俊彦, 牧 平坦, 芹澤正芳, 土井秀明, 水野文夫, 野副真理, 井古田まさみ, 細江卓朗, 近松秀一, 神宮孝広, 伊藤 慎, 阿部 茂 : 差画像検出方式異物検査装置の開発, 精密工学会誌, 57, 11(1991)1955.
  • 4) 森 勇蔵, 安 弘, 遠藤勝義, 山内和人, 杉山和久, 土屋八郎, 井出 傲 : 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発, 精密工学会誌, 54, 11(1988)2132.
  • 5) 森 勇蔵, 安 弘, 遠藤勝義, 山内和入, 井出 敞 : 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報)-シリコソウエハ表面付着微粒子の測定, 精密工学会誌, 56, 10(1990)1847.

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