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J-GLOBAL ID：200902139495817997   整理番号：99A0936046

プロセシングプラズマで汚れた環境における電子密度測定のためのプラズマ吸収プローブ

Plasma Absorption Probe for Measuring Electron Density in an Environment Soiled with Processing Plasmas.

著者 (4件)： KOKURA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  NAKAMURA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GHANASHEV I P (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SUGAI H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 9A  ページ： 5262-5266  発行年： 1999年09月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プローブ表面がプロセシングプラズマで汚れても局所的な絶対電子...

シソーラス用語： *プラズマ探針 ,...
準シソーラス用語： 電子プラズマ波 ,...

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分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (7件)：

• 1) T. Shirakawa and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 5129.
• 2) T. H. Ahn, K. Nakamura and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) L1405.
• 3) M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3714.
• 4) A. Schwabedissen, E. C. Benck and J. R. Roberts: Plasma Sources Sci. Technol. 7 (1998) 119.
• 5) A. Schwabedissen, C. Soll, A. Brockhaus and J. Engemann: to be published in Plasma Sources Sci. Technol. (1999).

タイトルに関連する用語 (4件)： 環境 ,  電子密度 ,  プラズマ ,  プローブ