マスクを通した蒸着によるスパッタ膜のパターン形成

文献

J-GLOBAL ID：200902139828307886 整理番号：96A0902396

Pattern Formation of Sputtered Films by Deposition through Mask.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=96A0902396&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0902396&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

著者 (7件)： , , , , , ,
資料名：
巻： 35 号： 9A ページ： 4755-4759 発行年： 1996年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

膜パターンの精度あるいは鮮鋭度を明らかにするためにパターン端...

,...
,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0902396&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

固体デバイス製造技術一般 , 金属薄膜

引用文献 (14件)：

, , ,

前のページに戻る