193nmリソグラフィー用の新型の単層レジスト

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J-GLOBAL ID：200902143280432609 整理番号：96A0498216

A New Single-Layer Resist for 193-nm Lithography.

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資料名：
巻： 35 号： 4B ページ： L528-L530 発行年： 1996年04月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

標記リソグラフィー用のテトラヒドロ-4-メチル-2オキソ-2...

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その他の高分子の反応 , 固体デバイス製造技術一般

引用文献 (12件)：

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