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J-GLOBAL ID：200902144652194900   整理番号：00A1007660

エーロゾル堆積法によりSi膜上に構成したジルコニウムチタン酸鉛厚膜のアクチュエータ特性

Actuation Properties of Lead Zirconate Titanate Thick Films Structured on Si Membrane by the Aerosol Deposition Method.

著者 (3件)： LEBEDEV M (A.I.S.T., M.I.T.I., Ibaraki, JPN) ,  AKEDO J (A.I.S.T., M.I.T.I., Ibaraki, JPN) ,  AKIYAMA Y (R&D Center RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 9B  ページ： 5600-5603  発行年： 2000年09月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Pt/Ir/Ta/SiO₂/Si基板上...

シソーラス用語： エアロゾル ,...
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】

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分類 (1件)： 圧電デバイス  (NC03110I)

引用文献 (18件)：

• 1) J. Akedo: Oyo Buturi 68 (1999) 44 [in Japanese].
• 2) H. D. Chen, K. R. Udayakumar, C. J. Gaskey, L. E. Cross, J. J. Bernstein and L. C. Niles: J. Am. Ceram. Soc. 79 (1996) 2189.
• 3) S. Watanabe and T. Fujii: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 1481.
• 4) Y. Ohba, M. Miyauchi, T. Tsurumi and M. Daimon: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 4095.
• 5) M. R. Poor and C. B. Fledderman: J. Appl. Phys. 70 (1991) 3385.

タイトルに関連する用語 (6件)： エーロゾル堆積法 ,  Si膜 ,  ジルコニウム ,  チタン酸鉛 ,  厚膜 ,  アクチュエータ