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J-GLOBAL ID：200902147363997158   整理番号：00A0579748

半導体ナノ構造体製造のためのSR誘起エッチングとOMVPE成長

SR-stimulated etching and OMVPE growth for semiconductor nanostructure fabrication.

著者 (8件)： NONOGAKI Y (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HATATE H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  OGA R (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  YAMAMOTO S (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  FUJIWARA Y (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TAKEDA Y (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  NODA H (Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN) ,  URISU T (Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
資料名： Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology  (Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻： B74  号： 1/3  ページ： 7-11  発行年： 2000年05月01日 
JST資料番号： T0553A  ISSN： 0921-5107  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノ構造体 ,  Sr ,  誘起 ,  エッチング ,  OMVPE ,  成長