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J-GLOBAL ID：200902148420983831   整理番号：01A0212498

電子ビームリソグラフィーにおけるレジスト断面プロファイルの自動ドーズ最適化システム

Automatic Dose Optimization System for Resist Cross-Sectional Profile in a Electron Beam Lithography.

著者 (5件)： HIRAI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  KIKUTA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKANO M (Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN) ,  YOTSUYA T (Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN) ,  YAMAMOTO K (Nalux Co. Ltd., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 12B  ページ： 6831-6835  発行年： 2000年12月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポジテイブ電子ビームレジストのためのレジスト現像シミュレーシ...

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

引用文献 (11件)：

• 1) W. Daschner, M. Larsson and S. H. Lee: Appl. Opt. 34 (1995) 2534.
• 2) D. Mikolas, R. Bojko, G. Craighead, F. Hass, D. Honey and H. Bare: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B12</B> (1994) 20.
• 3) L. Grella, E. Fabrizio, M. Gentili, M. Baciocchi and R. Maggiora: Microelectr. Eng. 35 (1997) 495.
• 4) E.-B. Kley, B. Schnabel and U. D. Zeitner: Microelectr. Eng. 34 (1997) 261.
• 5) T. Chang: J. Vac. Sci. & Technol. <B>12</B> (1975) 1271.

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビームリソグラフィー ,  レジスト ,  プロファイル ,  最適化