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J-GLOBAL ID：200902149095436930   整理番号：93A0598995

メタクリレート重合体を用いた高性能KrF及びArF単層レジストの設計

Designing high performance KrF and ArF single layer resists with methacrylate polymers.

著者 (5件)： ALLEN R D (IBM Research Division, CA) ,  WALLRAFF G M (IBM Research Division, CA) ,  HINSBERG W D (IBM Research Division, CA) ,  CONLEY W E (IBM Corp., NY) ,  KUNZ R R (MIT Lincoln Lab., MA)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 6  号： 4  ページ： 575-591  発行年： 1993年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタクリル酸メチル-メタクリル酸t-ブチル-メタクリル酸三元...

シソーラス用語： フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： メタクリル酸 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (12件)：

• 1). R. D. Allen, G. M. Wallraff, W. D. Hinsberg, and L. L. Simpson, J. Vac. Sci. Technol. B(9), 3357 (1991).
• 2). G. M. Wallraff, R. D. Allen, W. D. Hinsberg, C. G. Willson, L. L. Simpson, S. E. Webber and .J. L. Sturtevant, J. Imaging Sci. and Tech., 36(5), 468 (1992).
• 3). R. R. Kunz, R. D. Allen, W. D. Hinsberg and G. M. Wallraff, "Acid Catalyzed Single Layer Resists for ArF Lithography", To appear in SPIE, Proceedings, 1925 (1993).
• 4). W. Hinsberg, S. MacDonald, N. Clecak, C. Snyder, and H. Ito, "Influence of Polymer Properties on Airborne Chemical Contamination of Chemically Amplified Resists", To appear in SPIE Proceedings, 1925 (1993).
• 5). Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi and N. Abe, Proc. SPIE, 1672, 66 (1992).

タイトルに関連する用語 (7件)： メタクリレート ,  重合体 ,  高性能 ,  ARF ,  単層 ,  レジスト ,  設計