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J-GLOBAL ID：200902150575253699   整理番号：97A0775349

パルス気体プラズマによる粒子サイズ分散が小さいナノ結晶性シリコンの作製

Fabrication of Nanocrystalline Silicon with Small Spread of Particle Size by Pulsed Gas Plasma.

著者 (4件)： IFUKU T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  OTOBE M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ITOH A (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ODA S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36  号： 6B  ページ： 4031-4034  発行年： 1997年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超高周波(VHF;144MHz)励起によるパルスH<sub>...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (8件)：

• 1) K. K. Likharev: IBM J. Res. & Dev. <b> 32</b> (1988) 144.
• 2) K. Yano, T. Ishii, T. Hashimoto, T. Kobayashi, F. Murai and K. Seki: IEEE Trans. Electron Devices 41 (1994) 1628.
• 3) Y. Takahashi, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate, M. Nagase and K. Murase: IEEE Trans. Electron Devices 43 (1996) 1213.
• 4) S. Oda, J. Noda and M. Matsumura: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 118 (1988) 117.
• 5) S. Oda, J. Noda and M. Matsumura: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) 1889.

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  気体 ,  プラズマ ,  粒子サイズ ,  ナノ結晶性シリコン ,  作製