Mirau干渉顕微鏡を用いたアット波長極端紫外線リソグラフィーマスク検査

HAGA T; TAKENAKA H; FUKUDA M

文献

J-GLOBAL ID：200902155720338080 整理番号：01A0156981

Mirau干渉顕微鏡を用いたアット波長極端紫外線リソグラフィーマスク検査

At-wavelength extreme ultraviolet lithography mask inspection using a Mirau interferometric microscope.

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巻： 18 号： 6 ページ： 2916-2920 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

極端紫外線(EUV)干渉顕微鏡を用いたEUVリソグラフィーマ...

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固体デバイス製造技術一般 , 光学的測定とその装置一般

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