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J-GLOBAL ID：200902158022010934   整理番号：97A0390001

スパッタ法による酸化亜鉛薄膜形成時における酸素欠損の発生

Generation of Oxygen Vacancies in Zinc Oxide Films During Sputtering Process.

著者 (3件)： 斎藤洋司 (成けい大 工) ,  門馬正 (成けい大 工) ,  榊原幹人 (成けい大 工)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C-2  (Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： 80  号： 3  ページ： 115-116  発行年： 1997年03月 
JST資料番号： L0196A  ISSN： 0915-1907  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： スパッタ法でZnO薄膜を作製した場合の酸素欠損発生の原因をイ...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...
準シソーラス用語： 酸素欠損 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (6件)：

• SATO, H. Thin Solid Films. 1994, 246, 1-2, 86-91
• QUARANTA, F. J. Appl. Phys. 1993, 74, 1, 244-248
• IGASAKI, Y. J. Appl. Phys. 1991, 69, 4, 2190-2195
• KOKAI, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1988, 27, 8, 1390-1391
• TANAKA, Y. J. Opt. Soc. America. 1955, 45, 9, 710-713

タイトルに関連する用語 (3件)： スパッタ法 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  酸素欠損