文献

J-GLOBAL ID：200902166019972086   整理番号：02A0616911

157nmリソグラフィー用のフォトレジスト材料の設計のためのVUV領域における光吸収スペクトルのDFT計算

DFT Calculations of Photoabsorption Spectra in the VUV Region for Design of Photoresist Materials for 157 nm Lithography.

著者 (3件)： ANDO S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  FUJIGAYA T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  UEDA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 4  ページ： 559-568  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空紫外(VUV)領域における有機分子及び高分子の透明度を調...

シソーラス用語： 密度汎関数法 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0616911&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (26件)：

• 1). T.M. Bloomstein, M.W. Horn, M. Rothschild, R.R. Kunz, S.T. Palmacci, and R.B. Goodman, J. Vac. Sci. Technol., B15 (1997) 2112.
• 2). M.K. Crawford, A.E. Feiring, J. Feldman, R.H. French, M. Periyasamy, F.L. Schadt, III, R.J. Smalley, F.C. Zumsteg, R.R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S,M. Hall, Proc. SPIE, 3999, (1999) 357.
• 3). H. Ito and R. Schwalm, in Recent Advances in Anionic Polymerization, T.E. Hogen-Esch and J. Smid, eds., Elsevier, New York, (1987).
• 4). H. Ito, N. Seehof, R. Sato, T. Nakayama, and M. Ueda, in Micro- and Nano-Patterning Polymers, H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, and T. Ueno, Eds., American Chemical Society, Washington, D.C., Chapter 16, p.208-223 (1998).
• 5). T. Chiba, R.J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A.V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (2000) 657.

タイトルに関連する用語 (6件)： リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  設計 ,  VUV ,  光吸収スペクトル ,  DFT計算