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J-GLOBAL ID：200902166556135891   整理番号：99A0042852

化学増幅レジスト用の光酸発生剤としての高感光性のジアゾ化合物

Highly Photosensitive Diazo Compounds as Photoacid Generators for Chemically Amplified Resists.

著者 (5件)： HARADA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SAITO K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUGITA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  IIDA H (Toyo Goshei Kogyo Co., Chiba, JPN)
資料名： ACS Symposium Series (American Chemical Society)  (ACS Symposium Series (American Chemical Society))
号： 706  ページ： 126-133  発行年： 1998年 
JST資料番号： H0588B  ISSN： 0097-6156  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学増幅レジスト ,  光酸発生剤 ,  感光性 ,  ジアゾ化合物