保護酸化物層を用いたSi(111)上の,非常に平滑な表面を持った,非常に薄いエピタキシャルAl2O3予備層の形成

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J-GLOBAL ID：200902173755745581 整理番号：99A0497716

保護酸化物層を用いたSi(111)上の,非常に平滑な表面を持った,非常に薄いエピタキシャルAl₂O₃予備層の形成

Formation of Very Thin Epitaxial Al₂O₃ Pre-layer with Very Smooth Surface on Si (111) Using a Protective Oxide Layer.

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資料名：
巻： 38 号： 4B ページ： 2333-2336 発行年： 1999年04月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

保護Si酸化物層とAl層を用いて,Al2</sub...

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酸化物薄膜

引用文献 (18件)：

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