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J-GLOBAL ID：200902177091461144   整理番号：97A0501297

SiO₂薄膜中のSi-H,Si-O-HおよびSi-O-O-H欠陥の分子軌道法による解析

Analysis of Si-H, Si-O-H and Si-O-O-H Defects in SiO₂ Thin Film by Molecular Orbital Method.

著者 (3件)： KANASHIMA T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OKUYAMA M (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HAMAKAWA Y (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36  号： 3B  ページ： 1448-1452  発行年： 1997年03月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO₂中のH関連欠陥を半経験的および...

シソーラス用語： 二酸化ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (21件)：

• 1) M. Kohketsu, K. Awazu, H. Kawazoe and M. Yamane: Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) 622.
• 2) M. Kohketsu, K. Awazu, H. Kawazoe and M. Yamane: Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) 615.
• 3) Y. Hibino and H. Hanafusa: J. Appl. Phys. 60 (1986) 1797
• 4) T. Kanashima, R. Nagayoshi, M. Okuyama and Y. Hamakawa: J. Appl. Phys. 74 (1993) 5742
• 5) M. O'Keeffe and G. V. Gibbs: J. Chem. Phys. 81 (1984) 876

タイトルに関連する用語 (6件)： SiO2 ,  薄膜 ,  Si ,  欠陥 ,  分子軌道法 ,  解析