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J-GLOBAL ID：200902181361716333   整理番号：99A0539651

トリガーなしのシャントアーク放電によるパルス金属イオン源

Pulsed metal ion source by triggerless shunting arc discharge.
著者 (5件)：
YUKIMURA K

YUKIMURA K について

(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)

Doshisha Univ., Kyoto, JPN について

, 
ISONO R

ISONO R について

(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)

Doshisha Univ., Kyoto, JPN について

, 
MONGUCHI T

MONGUCHI T について

(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)

Doshisha Univ., Kyoto, JPN について

, 
YOSHIOKA K

YOSHIOKA K について

(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)

Doshisha Univ., Kyoto, JPN について

, 
MASAMUNE S

MASAMUNE S について

(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)

Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures について


巻： 17  号： 2  ページ： 871-874  発行年： 1999年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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プラズマ浸漬イオン注入用のイオン源としての低圧ガス中で自己着...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*プラズマ源

プラズマ源 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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プラズマ浸漬イオン注入

プラズマ浸漬イオン注入 について


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分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ装置 
(BJ02082I)

プラズマ装置 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
トリガー

トリガー について

, 
シャント

シャント について

, 
アーク放電

アーク放電 について

, 
パルス

パルス について

, 
金属イオン

金属イオン について


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