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J-GLOBAL ID：200902181368584831   整理番号：01A0851866

超純水のみによる電気化学的加工法の研究 水素終端化されていないSi(001)表面原子とOHとの反応素過程

A Study on Electrochemical Machining Method in Ultrapure Water. Etching Process of Si(001) Surface Atom by Hydroxyl Function.

著者 (5件)： 後藤英和 (京都工繊大 工芸) ,  広瀬喜久治 (大阪大 大学院工学研究科) ,  小畠厳貴 (大阪大 大学院工学研究科) ,  当間康 (荏原総合研) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 67  号： 8  ページ： 1321-1326  発行年： 2001年08月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超純水中のOHイオンによる加工機構の解明を目的として,第一原...

シソーラス用語： *超純水 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• 森勇蔵. 半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第1報). 1998年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 1998, 443
• 森勇蔵. 金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第2報). 1999年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. 1999, 421
• 森勇蔵. 金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第3報). 1999年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 1999, 571
• MORI, Y. Development of Ultra-Precision and Ultra-Clean Electro-Chemical Processing Method Using Hydroxyl Ion in Ultrapure Water. Precision Science and Technology for Perfect Surfaces. 1999, 3, 237
• 森勇蔵. 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 - 触媒反応を利用した超純水中のOH^-イオン密度の増加方法 -. 精密工学会誌. 2001, 67, 6, 932

タイトルに関連する用語 (7件)： 純水 ,  電気化学的加工 ,  研究 ,  水素終端 ,  Si ,  原子 ,  素過程