電子ビームリソグラフィーシミュレーション用の分割法の改善

AYA S; HIFUMI T; KISE K; MARUMOTO K

文献

J-GLOBAL ID：200902183501030413 整理番号：02A0329839

電子ビームリソグラフィーシミュレーション用の分割法の改善

Improvement in partitioning method for electron beam lithography simulation.

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資料名：
巻： 20 号： 1 ページ： 90-94 発行年： 2002年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電子ビームリソグラフィーシミュレーションでのレジストに堆積す...

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固体デバイス製造技術一般 , 電子ビーム・イオンビームの応用

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