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J-GLOBAL ID:200902185045312250   整理番号:01A0700172

化学気相蒸着により成長させた4H-と6H-と15R-SiC(0001)エピタクシー層の表面形態構造

Surface Morphological Structures of 4H-,6H- and 15R-SiC(0001) Epitaxial Layers Grown by Chemical Vapor Deposition.
著者 (6件):
資料名:
巻: 40  号: 5A  ページ: 3315-3319  発行年: 2001年05月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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4H-,6H-および15R-SiC(0001)基板上にSiC...
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分類 (2件):
分類
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半導体薄膜  ,  半導体の表面構造 
引用文献 (23件):
  • 1) Fundamental Questions and Applications of SiC, Part I and II, eds. W. J. Choyke, H. Matsunami and G. Pensl (Akademie Verlag, Berlin, 1997).
  • 2) Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Part I and II, eds. G. Pensl, H. Morkoc, B. Monemar and E. Janzen (Trans Tech Publications, Zuerich, 1998).
  • 3) A. R. Verma and P. Krishna: Polymorphism and Polytypism in Crystals (Wiley, New York, 1966).
  • 4) M. Bhatnagar and B. J. Baliga: IEEE Trans. Electron Devices 40 (1993) 645.
  • 5) J. W. Palmour, J. A. Edmond, H. S. Kong and C. H. Carter, Jr.: Physica B 185 (1993) 461.
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