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J-GLOBAL ID：200902185563292123   整理番号：95A0458003

低温プラズマトーチによる空気中のフォトレジスト灰化: 陰極材料の接触分析

Open air photoresist ashing by a cold plasma torch: Catalytic effect of cathode material.

著者 (4件)： INOMATA K (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  KOINUMA H (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  OIKAWA Y (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  SHIRAISHI T (Tokai Univ., Kanagawa, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 66  号： 17  ページ： 2188-2190  発行年： 1995年04月24日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 気体と電子温度がそれぞれ240°C,1.0eVのトーチ型プラズ...

シソーラス用語： フォトレジスト ,...

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低温 ,  プラズマトーチ ,  空気中 ,  フォトレジスト ,  灰化 ,  陰極材料 ,  接触分析