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J-GLOBAL ID：200902186481192429   整理番号：02A0772760

効率JohanssonスペクトロメータおよびアンジュレータX線源を用いた波長分散全反射蛍光X線分析 10^-16g濃度の痕跡金属の検出

Wavelength-Dispersive Total-Reflection X-ray Fluorescence with an Efficient Johansson Spectrometer and an Undulator X-ray Source: Detection of 10^-16 g-Level Trace Metals.

著者 (4件)： SAKURAI K (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  EBA H (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  INOUE K (JASRI, Hyogo, JPN) ,  YAGI N (JASRI, Hyogo, JPN)
資料名： Analytical Chemistry  (Analytical Chemistry)
巻： 74  号： 17  ページ： 4532-4535  発行年： 2002年09月01日 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 全反射蛍光X線分析(TXRF)の検出能を著しく増強する方法を...

シソーラス用語： *元素分析 ,...
準シソーラス用語： Johanssonスペクトロメータ ,...

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分類 (1件)： その他の物理分析  (CC03014E)

タイトルに関連する用語 (6件)： スペクトロメータ ,  アンジュレータ ,  X線源 ,  波長分散 ,  全反射蛍光X線分析 ,  痕跡