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J-GLOBAL ID:200902187181014983   整理番号:99A0772555

シランRF放電中で粒子成長に気体流が及ぼす効果

Effects of Gas Flow on Particle Growth in Silane RF Discharges.
著者 (5件):
資料名:
巻: 38  号: 7B  ページ: 4556-4560  発行年: 1999年07月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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シャワー型パワー電極のプラズマ化学蒸着(PCVD)反応器中で...
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分類 (2件):
分類
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プラズマ応用  ,  固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (26件):
  • HERSHKOWITZ, N. Proc.NATO Advanced Research Workshop on Formation, Transport and Consequences of Particles in Plasmas. Plasma Sources Sci.& Technol. 1994, 3, 239
  • GOREE, J. A. Special Issue on Charged Dust in Plasmas. IEEE Trans.Plasma Sci. 1994, PS22, 89
  • CHOI, S. J. J.Appl.Phys. 1993, 74, 853
  • HOWLING, A. A. J.Phys. 1993, D26, 1003
  • BOUFENDI, L. J.Appl.Phys. 1994, 76, 148
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タイトルに関連する用語 (4件):
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