文献

J-GLOBAL ID：200902187693102094   整理番号：00A0692960

凝集抑制抽出現像(SAGEX)レジスト

Suppressed Aggregate Extraction Development (SAGEX) Resists.

著者 (5件)： YAMAGUCHI T (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  NAMATSU H (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  NAGASE M (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  YAMAZAKI K (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  KURIHARA K (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13  号： 3  ページ： 427-433  発行年： 2000年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レジストパターン中の線画角部粗度(LER)を低減する目的で,...

シソーラス用語： *レジスト ,...
準シソーラス用語： 橋架け ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  写真薬剤  (ZA03030B)

物質索引 (2件)： 1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(アセトキシメチル)ベンゼン ,  メチルシクロヘキシル(2-オキソシクロヘキシル)スルホニウム・トリフルオロメチルスルホナート

引用文献 (15件)：

• 1). Y. Nakajima, Y. Takahashi, S. Horiguchi, K. Iwadate, H. Namatsu, K. Kurihara, and M. Tabe, Appl. Phys. Lett., 65 (1994) 2833.
• 2). H. Namatsu, S. Horiguchi, M. Nagase, and K. Kurihara, J. Vac. Sci. Technol., B15 (1997) 1688.
• 3). Y. Takahashi, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate, M. Nagase, and K. Murase, IEEE Trans. Electron Devices ED-43 (1996) 1213.
• 4). M. Nagase, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate, K. Murase and T. Makino, Microelectron. Eng. 30 (1996) 419.
• 5). H. Namatsu, Y. Takahashi, K. Yamazaki, T. Yamaguchi, M. Nagase and K. Kurihara, J. Vac. Sci. Technol. B16 (1998) 69.

タイトルに関連する用語 (3件)： 凝集 ,  現像 ,  レジスト