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J-GLOBAL ID：200902189738145426   整理番号：01A0157073

157nmレジスト材料 経過報告

157nm resist materials: Progress report.

著者 (9件)： BRODSKY C (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  BYERS J (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  CONLEY W (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  HUNG R (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  YAMADA S (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  PATTERSON K (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  SOMERVELL M (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  TRINQUE B (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  WILLSON C G (Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18  号： 6  ページ： 3396-3401  発行年： 2000年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 157nm用の単層レジストのモジュラ設計を試みた。レジストを...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： (1S,4R)-5,5-ジフルオロ-6β-(トリフルオロメチル)ノルボルナ-2-エン-6-カルボン酸エチル ,  (1S,4R)-5,5-ジフルオロ-6β-(トリフルオロメチル)-6-エトキシノルボルナ-2-エン ,  (1S,4R)-5,5-ジフルオロ-6α-[2-エトキシ-2-(トリフルオロメチル)-3,3,3-トリフルオロプロピル]ノルボルナ-2-エン ,  (1S,4R)-6β-(トリフルオロメチル)ノルボルナ-2-エン-6-カルボン酸エチル ,  (1S)-6,6-ジフルオロ-7β-(トリフルオロメチル)-1β,4β:5β,8β-ジメタノ-1,4,4aα,5,6,7,8,8aα-オクタヒドロナフタレン-7-カルボン酸エチル

タイトルに関連する用語 (2件)： レジスト材料 ,  報告