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J-GLOBAL ID：200902189945532421   整理番号：95A0692022

化学増幅レジスト法の安定化

Stabilization of the Chemically Amplified Resist Process.

著者 (7件)： OIKAWA A (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  HATAKENAKA Y (Fujitsu VLSI Ltd., Kuwana-gun, JPN) ,  IKEDA Y (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  KOKUBO Y (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  MIYATA S (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  SANTOH N (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  ABE N (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 8  号： 4  ページ： 519-524  発行年： 1995年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学増幅レジストの加工の立場から,空中に飛散している化学物質...

シソーラス用語： 雰囲気 ,...
準シソーラス用語： ポジレジスト ,...

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分類 (1件)： その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (8件)：

• 1).S.A.MacDonald, N.J.Clecak, H.R.Wendt, C.G.Willson, C.D.Snyder, C.J.Knors, N.B.Deyoe, J.G.Maltabes, J.R.Morrow, A.E.McGuire and S.J.Holmes, Proc. SPIE, 1466, 1, 1991.
• 2).D.J.H.Funhoff, H.Binder, and R.Schwalm, Proc. SPIE, 1672, 46, 1992.
• 3).H.Ito, W.P.England, N.J.Clecak, G.Breyta, H.Lee, D.Y.Yoon, R.Sooriyakumaran, and W.D.Hinsberg, Proc. SPIE, 1925, 65, 1993.
• 4).K.J.Przybilla, Y.Kinoshita, T.Kudo, S.Masuda, H.Okazaki, M.Padmanaban, G.Pawlowski, H.Roeschert, W.Siess, and N.Suehiro, Proc. SPIE, 1925, 76, 1993.
• 5).A.Oikawa, N.Santoh, S.Miyata, Y.Hatakenaka, H.Tanaka and K.Nakagawa, Proc. SPIE, 1925, 92, 1993.

タイトルに関連する用語 (2件)： 化学増幅レジスト ,  安定化