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J-GLOBAL ID:200902189993622343   整理番号:01A0895370

マグネトロンスパッタドライプロセスによる可視光応答型二酸化チタン薄膜光触媒の作製

Preparation of TiO2 Thin Film Photocatalysts Working under Visible Light Irradiation by Applying a RF Magnetron Sputtering Deposition Method.
著者 (5件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 561-565  発行年: 2001年09月10日 
JST資料番号: F0940B  ISSN: 0388-5321  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (2件):
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その他の触媒  ,  酸化物薄膜 
引用文献 (22件):
  • 1) 藤嶋 昭,橋本和仁,渡部俊也:“光クリーン革命” (シーエムシー, 1997).
  • 2) 金子正夫編:“光化学エネルギー変換 基礎と応用” (アイピーシー, 1997).
  • 3) 窪川 裕,本多健一,斉藤泰和共編:“光触媒” (朝倉書店, 1988).
  • 4) 清野 学:“酸化チタン物性と応用技術” (技報堂出版, 1991).
  • 5) A. Heller: Acc. Chem. Res. 28, 503 (1995).
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