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J-GLOBAL ID：200902192479788608   整理番号：99A0632166

フッ化水素酸蒸気分解/マイクロコンセントリックネブライザー誘導結合プラズマ質量分析法によるシリコンウェハー表面の超微量ゲルマニウムの定量

Determination of ultra-trace germanium on a silicon wafer by hydrofluoric acid vapor-decomposition/ microconcentric nebulizer-ICP-MS.

著者 (5件)： 藤原健児 (松下電子工業 電子総研) ,  東森陽子 (松下電子工業 電子総研) ,  光亦博志 (松下電子工業 電子総研) ,  稲田雅紀 (松下電子工業 電子総研) ,  中原武利 (大阪府大 工)
資料名： 分析化学
巻： 48  号： 7  ページ： 681-685  発行年： 1999年07月05日 
JST資料番号： F0008A  ISSN： 0525-1931  CODEN： BNSKAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Siウエハ表面の超微量Geの高感度,高精度かつ迅速な定量の前...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： シリコン

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  無機物質中の元素の物理分析  (CC03022H)

引用文献 (9件)：

• SHIMAZAKI, A. Ext.Abst.16th Conf.Solid State Devices and Materials. 1984, 281
• 谷添泰子. 分析化学(Bunseki Kagaku). 1989, 38, 177
• 藤野允克. 表面科学. 1989, 10, 162
• 江藤徹. 日本分析化学会第38年会講演要旨集. 1989, 502
• 渡邊かおり. ウルトラクリーンテクノロジー. 1993, 5, 287

タイトルに関連する用語 (8件)： フッ化水素酸 ,  蒸気 ,  分解 ,  誘導結合プラズマ質量分析法 ,  シリコン ,  ウェハー表面 ,  ゲルマニウム ,  定量