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J-GLOBAL ID：200902192702901179   整理番号：99A0120659

OHを含まずkの低い有機シリカ膜の化学蒸着

Chemical-Vapor Deposition of OH-free and Low-k Organic-Silica Films.

著者 (5件)： UCHIDA Y (Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN) ,  TAGUCHI K (Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN) ,  NAGAI T (Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN) ,  SUGAHARA S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  MATSUMURA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37  号： 12A  ページ： 6369-6373  発行年： 1998年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販の新しい含むソースガス((CH₃)...

シソーラス用語： *化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (4件)： メチルトリイソシアナトシラン ,  ジメチルジイソシアナトシラン ,  トリメチルイソシアナトシラン ,  テトラメチルシラン

引用文献 (13件)：

• 1) T. Usami, K. Shimokawa and M. Yoshimaru: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 408
• 2) T. Homma, Y. Murao and R. Yamaguchi: J. Electrochem. Soc. 141 (1994) 3599.
• 3) T. Nakano, K. Tokunaga and T. Ohta: J. Electrochem. Soc. 142 (1995) 1303.
• 4) C. M. Haines, J. I. Ladouce, A. B. Currie and C. M. Syktich: Proc. 3rd Int. Conf. DUMIC, Santa Clara, 1997 (VMIC, Tampa, 1997) p. 317.
• 5) G. Sugahara, N. Aoi, M. Kubo, K. Arai and K. Sawada: Proc. 3rd Int. Conf. DUMIC, Santa Clara, 1997 (VMIC, Tampa, 1997) p. 19.

タイトルに関連する用語 (2件)： シリカ膜 ,  化学蒸着